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SPA-500/750----1:2缩小型和等倍型投影曝光器 SPA-500和SPA-750适用于各种不同光学微电子制造设备：用于信息和光学通信产业的石英晶振器；用于汽车和其它工业的石英谐振器；光电传感器，如发光二极管和半导体激光器；光微型加工设备等。 使用远心光学系统避免了放大率误差。在50mm曝光区内，有2umL/S分辨率,这使得SPA-500可以在一次曝光时将1:2减影十字线图象均匀地曝光在晶圆上。 在75mm曝光区内，有5umL/S分辨率,这使得SPA-750可以在一次曝光时将1:1十字线图象均匀地曝光在晶圆上。这两种设备特别适合各种微细线路图形的形成。 |
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SMA-600FA----全自动非接触双面观察掩膜校准器（用于直径6英寸的晶圆）
SMA-600FA是一全自动掩膜校准器，用于接触或近距离校准，它集成高精度光学系统和非接触校正装置，并有大到150mm的曝光区。通过设置往返运动器，当更换掩膜时，前期工作很容易完成。这套系统是建立在实现高分辨率（在真空接触时1um L/S）和均匀照明密度（±3%或更小）基础上的，它特别适用于各种不同电子设备，如传感器（压力传感器、加速度传感器）和复合半导体器件（如LDs和LEDs等）的曝光工程。 |
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PEM-800/6M/8M----满足从研究开发到全自动化产品各种需要的双面观察掩膜校准器 PEM系列是一个高精密双面观察掩膜校准器，包括一个晶圆上下面的对正光学系统，因此能够完成上表面接触、软接触和近距离的阵列与晶圆下表面阵列的对正。由于在上下面对称地安装了10X物镜透镜的高分辨率光学系统，使得掩膜和晶圆能够精确对正。 因在成对物镜间距能够调整，所以不规则形状的晶圆也能够自由校正。 除上面型号之外，也可得到电动型PEM-1000/2000和全自动型PEM4FA/6FA
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SWS-100----阳极胶接临时定位系统 这个系统用于微小部品生产过程中对加工硅片和玻璃基板的临时定位，用于微型加工，半导体压力传感器，加速度传感器等。在牢固地胶接它们在一起之前应通过阳极化和直接胶接处理。 |
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SWS-100
IRV.IRT----三层阳极胶接临时定位系统
SWS-100 IRV.IRT被设计成校正基板，如玻璃和硅片，通过观察装置临时定位它们，以至于将它们最终胶接前，它们没有错位现象。通过一个单一操作，能够临时定位最多三层基板（如玻璃+硅片+玻璃）。 |
